碳方程新材料公司在CVD长晶设备研发生产上形成了完善的设备及产品体系,并且在CVD金刚石实验室生长工艺研发上取得了突破性的进展,以“设备+工艺”为方针,相互引导,相互依托,以规模生产为研发基石,共筑”MPCVD”生产技术蓝图。

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HTHP与CVD技术引领人造金刚石产业未来

  • 作者:碳方程新材料(山西)有限公司
  • 类别:行业新闻
  • 更新时间:2025-01-10 17:30:54
  • 浏览量:4人阅读

当前,人造金刚石产业正站在时代的风口,HTHP(高温高压法)和CVD(化学气相沉积法)作为两大核心生产技术,自具有独特的优势,如何实现两个行业的协同发展?

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·HTHP和CVD的现状与特点·

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HTHP技术

原理:以石墨粉、金属触媒粉末为原料,通过电流加热和液压装置建立高温、高压环境,模拟天然金刚石结晶和生长环境,使石墨发生相变形成金刚石晶体。


优势:技术成熟、合成速度快、单次产量高、制造成本相对较低,适合大规模工业化生产,国内应用广泛且在全球具备明显优势。特别是在1-5ct培育钻石合成方面具有明显优势。


应用:主要用于工业金刚石的生产,如钻头、磨具等工具,以及在珠宝行业中用于生产较小的培育钻石。


现状:据《培育钻石产业发展白皮书(2024 年)》显示,2023年中国培育钻石毛坯产量超过2200万克拉,占全球总产量的70%,其中大部分是采用HTHP法生产。在零售端,人造钻石正在逐渐改变消费者的购买习惯,成为越来越多人购买钻戒的选择。

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CVD技术

原理:在高温低压条件下,通过一定的方法激活含碳气体(甲烷、氢气、氮气等),使其中的碳原子从碳源气体剥离并在合适的基底上进行过饱和沉积,从而获得高纯度、高性能的金刚石。


优势:能够制备纯度较高、尺寸较大的金刚石颗粒和金刚石膜。随着技术的进步,可以工业化生产的尺寸显著扩大,应用价值持续提升。


应用:主要用于半导体领域,如制备高功率、高频、高温及低功率损耗电子器件。此外,CVD法也在珠宝行业中用于生产较大的培育钻石。


现状:美国DF制造出全球首块100mm单晶金刚石晶圆,展示了CVD法在大尺寸金刚石晶圆制备方面的潜力。


HTHP与CVD技术的协同发展,将为人造金刚石产业带来新的增长点和竞争优势。两个行业可以实现进可攻退可守的战略布局,共同引领产业迈向新格局。

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·碳方程MPCVD设备生产流程·

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晶籽准备

挑选高质量的晶籽,通过严格的清洗程序,确保晶籽表面无任何杂质和污染物。同时利用显微镜等精密工具,对晶籽进行细致检查,确保其表面光洁,无多晶或其他缺陷。


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放入自主研发的MPCVD设备中生长

将清洗并检验合格的晶籽置于碳方程自主研发的MPCVD设备中,通过精确控制温度、压力、气体成分等关键参数,启动钻石的精细生长过程。


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毛坯钻石生长中

在低压高温下,气体会分裂出一个个碳的等离子体,到“种子钻石”上,经过数周的生长,钻石毛坯逐渐成形,达到我们所需的厚度。碳方程50200A MPCVD设备单次可以生长8英寸多晶产品,若用于生长单晶金刚石时,单炉可生长489粒(7*7MM)。


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毛坯钻石的修整

生长的钻石边缘会有多晶,此时需切除其黑色多晶边缘,确保毛坯的纯净度。


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严格质检

钻石毛坯进入严格的质检环节,包括颜色、净度、切工、尺寸等多方面的全面检查。只有通过严苛质检的钻石毛坯,才能被认定为合格产品。


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