碳方程新材料公司在CVD长晶设备研发生产上形成了完善的设备及产品体系,并且在CVD金刚石实验室生长工艺研发上取得了突破性的进展,以“设备+工艺”为方针,相互引导,相互依托,以规模生产为研发基石,共筑”MPCVD”生产技术蓝图。

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MPCVD 设备-碳方程

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TFC-50200A

TFC-50200A

碳方程50200A MPCVD设备采用915MHZ的微波频率及50KW运行功率,该设备单炉可生产8英寸多晶产品,若用于生产单晶金刚石,单炉能够稳定产出多达489 片尺寸为 7*7mm的单晶金刚石,具有高可靠性、稳定运行、无人值守的安全联锁性能,极大地提高了生产效率,此设备旨在解决大尺寸金刚石的生长、高沉积速率的难题。 了解详情
TFC-10800D

TFC-10800D

TFC-10800D,微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备是最先进的 CVD系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体(MPCVD)综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完善、结构合理,使用方便、安全可靠、外形美观等特点,特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积;材料表面处理和改性;低温氧化物的生长等领域。 了解详情
TFC-10800C

TFC-10800C

TFC-10800C,微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备是最先进的 CVD系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体(MPCVD)综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完善、结构合理,使用方便、安全可靠、外形美观等特点,特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积;材料表面处理和改性;低温氧化物的生长等领域。 了解详情
TFC-6500B

TFC-6500B

TFC-6500B,微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备是最先进的 CVD 系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微 波等离子体(MPCVD)综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完 善、结构合理,使用方便、安全可靠、外形美观等特点,特别适合应用于 单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积;材料表面处理和改性;低温氧化物的生长等领域。 了解详情
TFC-6650C

TFC-6650C

TFC-6650C,微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备是最先进的 CVD 系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完 善、结构合理,使用方便、安全可靠、外形美观等特点,特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积;材料表面处理和改性;低温氧化物的生长等领域。 了解详情

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