碳方程公司产品

TFC-10800D

TFC-10800D，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是最先进的 CVD系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体（MPCVD）综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观等特点，特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。 了解详情

TFC-10800C

TFC-10800C，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是最先进的 CVD系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体（MPCVD）综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观等特点，特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。 了解详情

TFC-6500B

TFC-6500B，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是最先进的 CVD 系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微 波等离子体（MPCVD）综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完 善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观等特点，特别适合应用于 单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。 了解详情

TFC-6650C

TFC-6650C，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是最先进的 CVD 系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完 善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观等特点，特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。 了解详情