碳方程公司产品

TFC-50200A

碳方程50200A MPCVD设备采用915MHZ的微波频率及50KW运行功率，该设备单炉可生产8英寸多晶产品，若用于生产单晶金刚石，单炉能够稳定产出多达489 片尺寸为 7*7mm的单晶金刚石，具有高可靠性、稳定运行、无人值守的安全联锁性能，极大地提高了生产效率，此设备旨在解决大尺寸金刚石的生长、高沉积速率的难题。 了解详情

TFC-10800D

TFC-10800D，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是最先进的 CVD系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体（MPCVD）综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观等特点，特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。 了解详情

TFC-10800C

TFC-10800C，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是最先进的 CVD系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体（MPCVD）综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观等特点，特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。 了解详情

TFC-6500B

TFC-6500B，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是最先进的 CVD 系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微 波等离子体（MPCVD）综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完 善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观等特点，特别适合应用于 单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。 了解详情

TFC-6650C

TFC-6650C，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是最先进的 CVD 系统。针对用户的具体要求设计和研制的一台多用途、高稳定中等压强微波等离子体综合设备。它具有智能化生长、性能先进、功能完 善、结构合理，使用方便、安全可靠、外形美观等特点，特别适合应用于单晶和多晶金刚石膜、类金刚膜的化学汽相沉积；材料表面处理和改性；低温氧化物的生长等领域。 了解详情

金刚石热沉片

金刚石热沉片是继硅、砷化镓、磷化铟、氮化镓等之后的重要半导体材料之一，可用于重要的半导体器件，在生物检测和医疗、平板显示、环保工程、功能器件等多个高新技术领域都有巨大的应用潜力。金刚石材料的热导率和电学特性优势十分显著，没有任何明显短板，其热导率可达2000W/m.k，是铜、银的5倍，又是良好的绝缘体，这也使得金刚石器件拥有更高的功率处理能力。 了解详情