碳方程新材料公司在CVD长晶设备研发生产上形成了完善的设备及产品体系,并且在CVD金刚石实验室生长工艺研发上取得了突破性的进展,以“设备+工艺”为方针,相互引导,相互依托,以规模生产为研发基石,共筑”MPCVD”生产技术蓝图。

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产品介绍 | MPCVD-TFC10800D设备介绍

  • 作者:碳方程新材料(山西)有限公司
  • 类别:公司新闻
  • 更新时间:2024-04-18 14:43:26
  • 浏览量:128人阅读

碳方程MPCVD-TFC10800D设备设计精良,采用最先进的CVD系统,该系统结合了最新的微波技术与计算机控制和公式驱动的过程相结合,具有高可靠性、稳定运行、无人值守的安全联锁性能。

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TFC10800D设备展示

该设备稳定、高效,可实现24 * 7的连续稳定生产,故障率很低,具有智能增长、性能先进、功能完善、结构合理、使用方便、安全可靠、外观美观等特点,能有效满足各类生产需求,其操作简便直观,客户能够轻松上手。值得一提的是,我们采用高真空不锈钢水冷却腔体,无硅污染,这不仅增强了设备的耐用性,还显著提高了生产效率。

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长晶图片57片(7*7MM)

生长机台具备出色的自动调节能力,其调节范围可达15MM,可灵活适应各种生产需求。单个炉输出多达57件(7*7mm),这一出色的表现使得我们的设备在市场上脱颖而出。此外,我们的MPCVD设备所生产的产品净度等级可达到VVS级,充分展现了设备在精度和品质上的卓越追求。

总之,我们的MPCVD设备卓越的性能,选择我们的设备将为您的生产带来更高的效率和更好的产品。

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