人造金刚石的合成工艺及特性

金刚石是已知自然界中最硬的物质，包括天然金刚石和人造金刚石。人造金刚石因其优异的热、电、力学性能被广泛应用于半导体及电子器件、切削与钻探材料、光学材料以及珠宝首饰材料。

人造金刚石是通过人工模拟天然金刚石结晶条件和生长环境采用科学方法合成出来的金刚石晶体，其合成方法主要为高温高压法（HTHP）、化学气相沉积法（CVD）。

高温高压法（HTHP）是以石墨粉、金属触媒粉为主要原料，通过液压装置保持恒定的超高温、高压条件来模拟天然金刚石结晶条件和生长环境合成出金刚石晶体。

化学气相沉积法（CVD）是含碳气体和氢气混合物在高温和低于标准大气压的压力下被激发分解，形成活性金刚石碳原子，并通过控制沉积生长条件促使活性金刚石碳原子在基体上沉积交互生长成金刚石单晶。

目前，CVD法已成功地发展了许多种，如热丝CVD法、直流电弧等离子体CVD法、微波等离子体CVD法等。

热丝CVD法

HFCVD法是制备金刚石薄膜最早、也是较为成熟的方法之一。热丝法与其他方法相比，具有设备简单，生长过程容易控制，适合大面积金刚石薄膜及颗粒的产业化生产等优点。该方法是利用热丝加热反应腔室内的氢气、甲烷等反应气体，气体受热分解成为等离子体，含碳活性基团在基片台发生反应，沉积金刚石晶体。

直流电弧等离子体CVD法

直流电弧等离子体喷射装置如下图所示，腔体的上方由同轴型的两个电极组成，中间电极接高功率直流电源负极，另一电极接正极，等离子体下边具有冷却结构和抽气结构，可宏观调节腔内气压和沉积温度。反应气体在低压环境中被电场击穿产生电弧，电弧激发等离子，由于温度和压力迅速升高，气体从喷嘴处喷出，大量的含碳活性基团在衬底上沉积，实现大规模的金刚石制备。

微波等离子体CVD法

MPCVD装置由微波系统、冷却系统、运动系统、检测系统、气路、水路以及控制系统组成。

此类装置的原理是：由微波源将电能转化为微波能量，微波依次经过环形器、阻抗匹配器、波导、模式转换器、同轴结构进入谐振腔，波导管内的传输模式为TE10模式，经过模式转换器后进入谐振腔以TM模式谐振，在谐振腔内部的基片台上方聚焦形成强电场。当腔室内的气体和微波的输入功率互相匹配时，气体在强电场处被电离成为等离子体，温度达到预期后，通入甲烷、氮气以及氩气等气体，反应气体裂解成CH₂、CH₃、C₂H₂以及OH等基团，含碳活性基团在籽晶表面发生表面化学反应，形成sp³杂化的金刚石相和sp²杂化的石墨相，由于氢气对石墨的刻蚀作用大于对金刚石的刻蚀速度，从而实现金刚石的生长。     

碳方程的50200A MPCVD设备在生长多晶产品方面优势显著，设备采用915MHZ的微波频率，单炉可生产8英寸多晶产品，若用于生产单晶金刚石，单炉能够稳定产出多达489 片尺寸为 7*7mm 的单晶金刚石。设备运行功率方面，采用50KW大功率装置，更大尺寸的多晶产品意味着更高的生产效率和更低的单位成本，能够满足客户大规模生产的需求。同时，我们的设备在技术方面也有着诸多创新和突破，确保了产品的高质量和稳定性。有效降低生产成本，提高产品的市场竞争力。