碳方程新材料公司在CVD长晶设备研发生产上形成了完善的设备及产品体系,并且在CVD金刚石实验室生长工艺研发上取得了突破性的进展,以“设备+工艺”为方针,相互引导,相互依托,以规模生产为研发基石,共筑”MPCVD”生产技术蓝图。

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太原科技局领导莅临我司,开展服务与交流指导

  • 作者:碳方程新材料(山西)有限公司
  • 类别:公司新闻
  • 更新时间:2024-11-22 17:44:08
  • 浏览量:9人阅读

11月19日上午,太原科技局领导莅临公司开展入企服务与交流指导工作,此次访问不仅体现了科技局对我司半导体材料专用设备研发工作的重视,更为公司未来的发展指明了方向。

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碳方程总经理赵总详细介绍了公司自主研发的微波等离子化学气相沉积MPCVD设备。该设备以其卓越的性能和独特的优势,赢得了科技局领导们的高度赞誉。赵总还远程连线长治实验基地详细阐述了碳方程MPCVD设备的研发历程技术优势,并讲述了金刚石的切磨线业务,同时还就金刚石大尺寸材料的相关配套设备的研发进展和未来应用前景进行了深入浅出的讲解除此之外,还对公司与多所高校合作实验项目进行了展示和介绍。

科技局的工作人员在访问期间,对现行的科技创新惠企政策进行了宣传,为公司的发展提供了宝贵的政策指导。他们详细解读了相关政策内容,帮助公司更好地理解和把握政策机遇,为公司的未来发展指明了方向。同时,还深入了解我司在晋创谷现行试验场地上遇到的问题。针对这些问题,他们表示将积极协调各方资源,帮助公司解决场地等方面的实际困难,为公司的发展提供有力的支持和保障。

此次莅临服务指导为公司科技创新和未来发展注入了新的动力,我们将不断提升公司的研发实力和创新能力,为金刚石半导体材料产业的发展贡献更大的力量。

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