MPCVD技术——高品质单晶与多晶金刚石生长的首选方法
MPCVD化学气相沉积技术因其独特的优势,通过精确控制反应条件,在衬底上沉积金刚石。相较于传统CVD技术,其两大优势尤为突出:1、无电极污染:传统CVD技术依赖金属电极维持放电,易引入杂质,而MPCVD通过微波谐振腔直接激发气体,避免了金属污染,确保金刚石纯度。2、高密度等离子体:MPCVD的气体放电区域集中,激发出更多活
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公司专业从事MPCVD 技术研发和MPCVD 长晶设备、CVD大单晶金刚石的制造及生产。不仅可为客户提供专业的设备成熟的生长工艺,亦可为客户提供成套的技术方案,实现交钥匙工程。
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